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    [求助]关于沉积速率调整的一个问题 [复制链接]

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    离线oudexu
    实习生
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-01-06
    请教大家一个问题 SW,q}-  
    假如要降低镀膜的沉积速度，把靶基距调大或减小靶的溅射率，它们的效果一样吗？比如镀出来的膜的折射率，消光系数，薄膜的晶体结构等有什么差别吗？ U/.w;DI   
    机器：离子溅射  
     
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    离线timberwolf
    实习生
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    只看该作者 1楼 发表于: 2009-03-25
    当然不一样。膜层的附着力、应力和均匀性都效果不同。就看你的要求了。
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    离线renlgj
    技术员
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    只看该作者 2楼 发表于: 08-22
    跟着学习了
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