切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 3609阅读
    • 2回复

    [求助]关于沉积速率调整的一个问题 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线oudexu
    实习生
     
    发帖
    117
    光币
    92
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2009-01-06
    请教大家一个问题 m2uML*&O5K  
    假如要降低镀膜的沉积速度，把靶基距调大或减小靶的溅射率，它们的效果一样吗？比如镀出来的膜的折射率，消光系数，薄膜的晶体结构等有什么差别吗？ J s<MJ4r>/  
    机器：离子溅射  
     
    回复
    举报
    分享到
    离线timberwolf
    实习生
    发帖
    10
    光币
    0
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2009-03-25
    当然不一样。膜层的附着力、应力和均匀性都效果不同。就看你的要求了。
    回复
    举报
    离线renlgj
    技术员
    发帖
    199
    光币
    68
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 08-22
    跟着学习了
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表