切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 3310阅读
    • 4回复

    [求助]关于波长控制的一个话题 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线oudexu
    实习生
     
    发帖
    117
    光币
    92
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2008-12-21
    请教大家一个问题，机器离子溅射，在控制波长方面，以往是调节试样镜片到靶的距离就行了，而且非常敏感。最近几次调了很多距离也不见波长有变化。请问造成这种情况有哪些可能呢？ V@ cM|(  
    膜厚控制为光学极值法。
     
    回复
    举报
    分享到
    离线yzhuang
    论坛版主
    发帖
    339
    光币
    3188
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2008-12-21
    第一次听说这样调节的,我们调节的一般是单色仪的输出波长,基片位置是不动的,补充一下,我的是真空蒸镀
    回复
    举报
    离线oudexu
    实习生
    发帖
    117
    光币
    92
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 2008-12-22
    老式设备嘛 h]5C|M|  
    我们机器镀膜和测波长是分开的
    回复
    举报
    离线oudexu
    实习生
    发帖
    117
    光币
    92
    光券
    0
    只看该作者 3楼 发表于: 2008-12-22
    我们机器是老式设备 9`I _Et  
    镀膜和波长检测是分开的
    回复
    举报
    离线9603128
    工程师
    发帖
    32
    光币
    3852
    光券
    0
    只看该作者 4楼 发表于: 2009-03-04
    我是第一次听说这样调节的,我们调节的一般是单色仪的输出波长,基片位置是不动的,补充一下,我的是真空蒸镀，不应当有这种情况的
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表