切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 4511阅读
    • 4回复

    [讨论]离子源问题的讨论，欢迎达人进入 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线lsnanjing
    实习生
     
    发帖
    62
    光币
    3
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2008-08-12
    众所周知 ,在薄膜沉积的同时 ,辅助以具有一定能量的定向离子束的轰击 ,可以大大地改善薄膜的性能。 |c=d;+  
    它不仅可以显著增强膜基与膜层间的结合。而且可以起到增加存储密度 ,消除柱状晶 ,提高膜的致密度的作用。 R2SBhs,+R  
    我在这里想要和大家讨论的是：离子源可以改变膜层的折射率，那么可以不同的能量可以改变它的厚度吗？？？？
     
    回复
    举报
    分享到
    离线syw1984
    技术员
    发帖
    99
    光币
    165
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2008-08-23
    这好像不行啊，要厚就是整体的都厚了
    回复
    举报
    离线ken_jinyan1
    技术员
    发帖
    232
    光币
    48
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 2013-06-07
    薄膜的折射率变了，再用TFC设计不就不准了吗
    回复
    举报
    离线yangyangyang
    实习生
    发帖
    82
    光币
    61
    光券
    0
    只看该作者 3楼 发表于: 2014-06-25
    不可以改变厚度
    回复
    举报
    离线gaofei5588
    实习生
    发帖
    105
    光币
    80
    光券
    0
    只看该作者 4楼 发表于: 2017-11-24
    离子源和晶控或光控是单独体，改变离子源beam，会改变折射率，厚度肯定会发生变化。 Bk\*0B  
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表