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离子源问题的讨论,欢迎达人进入
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lsnanjing
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发表于: 2008-08-12
众所周知 ,在薄膜沉积的同时 ,辅助以具有一定能量的定向离子束的轰击 ,可以大大地改善薄膜的性能。
/ i2-h
它不仅可以显著增强膜基与膜层间的结合。而且可以起到增加存储密度 ,消除柱状晶 ,提高膜的致密度的作用。
1>x@1Mo+K
我在这里想要和大家讨论的是:离子源可以改变膜层的折射率,那么可以不同的能量可以改变它的厚度吗????
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syw1984
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1楼
发表于: 2008-08-23
这好像不行啊,要厚就是整体的都厚了
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ken_jinyan1
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2楼
发表于: 2013-06-07
薄膜的折射率变了,再用TFC设计不就不准了吗
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yangyangyang
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3楼
发表于: 2014-06-25
不可以改变厚度
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gaofei5588
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4楼
发表于: 2017-11-24
离子源和晶控或光控是单独体,改变离子源beam,会改变折射率,厚度肯定会发生变化。
!v4j`A;%
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