TracePro 和OSLO的区别 r?CI)Y;
主要区别 {CR 5K9
这二种新产品的最大区别是OSLO可以基于优化函数、相干光传播和分析波前,对光学系统进行优化。OSLO还有Gaussian光束分析、公差分析、部分相干、矢量衍射、局部和全局优化函数,这些TracePro都没有。OSLO还可以用多重结构同时分析和设计许多不同的光学系统。还可以使用户可以用一种分析,通过改变透镜之间的间隔及对整个变焦系统进行优化,设计变焦系统。 uZZU{U9h
OSLO可以用内建的局部优化和全局优化加上用户自定义的优化函数,用几何任何标准进行优化。包括通过优化达到最佳像质、最小弥散斑或者使像差最小。 9}c8Xt^&