1.关于重点取样。 LH=d[3Y
;asm 0H(
研究过mannual 里面对于重点取样的描述,应该是个有效的提高追迹效率的方法。但是自己的经验是对光源设置是有效的,但是对散射面(透射,反射)不仅无效,在重点取样方向有效光线数反而减少。 P<%v+O
我试过改变散射面的法向与重点取样面的组合,还有确认是"Towards"而不是离开。结果还是一样。有没有达人有这方面经验? x3Nkp4=Xd
{(rf/:X!p
2.关于追迹不完全。 [34zh="o
UT3bd,,
我最近在做的一个不算复杂的模拟,追30万光线,提示时间15分钟,但是总是在12-3万的地方自动停止,没有任何提示,这样光通量计算就是错的。之后作任何属性的修改都提示无法提取一个dll文件,“MSJET4x.dll",重新打开才可以。 C,o:
试过修改一些结构,(拉开部件距离,防止overlap),结果都是一样。但是作其他的模拟都不会有问题。这是怎么回事? /~40rXH2C
--另,内存应该没有用完,机器配置:P4 3.4Gx2(不过TP似乎只能使用一个),RAM 3G DDR2 533