主要镀膜材料及其性能和用途 BzN@gQo
名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 `}fw1X5L
三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 BBnq_w"a
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼,钽,电子枪 增透膜、多层膜 PeTA$Yl
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 kOjf #@c
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼,钽,电子枪 增透膜 UyiJU~r1
氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 %3o`j<
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪,Al2O3 透明导电膜 <)U4Xz ?
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼,钽,钨 增透膜 U| 5-0 u5
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼,钽,钨 增透膜、多层膜 & mt)d
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 2K{6iw"h
锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨,电子枪 增透膜 gzdG6"
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 *Y6xvib9*
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 L/Vx~r`P
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼,钽,钨 增透膜、保护膜 2@khSWV
五氧化二钽 2.1/500nm 400~7000 1950 电子枪 增透膜 (=
;N{u
一氧化钛 2.35/500nm 400~12000 1700~2000 电子枪 多层膜、分光膜 A.En+-[\
二氧化钛 2.35/500nm 400~12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜 S6D^3n
氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 `u
XQ z7
氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 j0mM>X HB
三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽,钨电子枪 增透膜、多层膜 qCPmbg
氟化钡 1.4/10600nm 220~11000 1280 钼,钽,铂 紫外-远红外膜、多层膜、增透膜 fex,z%}p
氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼,电子枪 增透膜 9P WY52!
硅 3.4/3000nm 1000~9000 1500 电子枪 红外膜 1m@^E:w
锗 4.4/2000nm 1700~23000 1300~1500 电子枪,钨 红外膜 w>e
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硒化锌 2.58/550nm 600~15000 600~900 钼,钽,电子枪 红外膜 MX|H}+\
硫化锌 2.4/1200nm 400~14000 1100 钼,钽,电子枪 多层膜 3EK9,:<Cf
氟化钇 红外膜(10.61.49/632.8nm 200~15000 1100 钼 m)增透膜 X}A'Cg0y
氟化镨 1.51/632.8nm 220~15000 红外膜(10.61400~1600 钼,电子枪 m)增透膜 _[h8P9YI4
氟化铝 1.35/500nm 200~8000 800~1000 电子枪,钼,钽 紫外膜 Vba.uKNjk
氟化铅 1.76/470nm 220~9000 700~1000 铂 紫外膜 "r'ozf2\
氧化钆 1.8/550nm 320~15000 2200 增透膜