主要镀膜材料及其性能和用途 FH21m wV
名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用
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三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 "K!BJQ
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼,钽,电子枪 增透膜、多层膜 5nq-b@?L
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 OYp8r
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼,钽,电子枪 增透膜 WA\f`SRF
氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 g uWqHVSs
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪,Al2O3 透明导电膜 ujqktrhuLb
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼,钽,钨 增透膜 uWj-tzu
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼,钽,钨 增透膜、多层膜 /=(FM
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 qWRMwvN{
锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨,电子枪 增透膜 Q%1;{5
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 G&3<rT3Ib
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 x2wWp-Z
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼,钽,钨 增透膜、保护膜 NS;8&