摘要 $<:E'^SAS
>3z5ww 可变角度椭圆偏振
光谱仪(VASE)是一种常用的技术,由于其对
光学参数的微小变化具有高灵敏度,而被用在许多使用
薄膜结构的应用中,如
半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中,我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅(SiO2)涂层上的使用。对于
系统的参数,我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)概述。I. 基本理论和典型应用",并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。
V(Ub!n:j 任务描述 ?LvCR_D: 镀膜样品 +$oF]OO 椭圆偏振分析仪 |V<h=D5W 总结 - 组件...
=[F<7pvE 椭圆偏振系数测量 31/Edd"] 椭圆偏振分析仪测量反射系数(s-和p-极化分量)的比率𝜌,并输出相位差𝛥,以及振幅分量Ψ,根据
rn<PR* 在VirtualLab Fusion中,复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析(RCWA),也被称为傅里叶模态法(FMM)来计算。因此,在研究
光栅样品的情况下,这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。
=Zi2jL?On 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 [Q=dCX9% 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性,对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化,1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率(0.02°为𝑇,0.1°为𝛥*)。因此,即使是涂层中的亚
纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。
6Cn+e.j@ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
6/rFHY2q 仿真结果与参考文献的比较 9K9DF1SOa 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时,𝛹和𝛥的差异。