[技术]VirtualLab Fusion应用：氧化硅膜层的可变角椭圆偏振光谱（VASE）分析 [复制链接]

摘要 ?a}eRA7  
5Qy,Pkje  
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 zh/+1  
任务描述 A]H+rxg  
镀膜样品 ARQ1H0_B  
椭圆偏振分析仪 /23v]HEPy  
总结 - 组件... ^
f<f&V  
椭圆偏振系数测量 B5I(ai7<M  
椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 K9w24Oka  
在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 i w m7M  
椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 p%3';7W\  
为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 nF=Ig-NX^  
* 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) _I$]L8hC  
仿真结果与参考文献的比较 FfD2 &(-R  
被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。