摘要 #sk~L21A 7%[ YX 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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Oi]B%Uxy= F S$8F 建模任务:专利WO2018/178626 nJ/}b/A{ bTZ.y.sI
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$ K4+|K:e 任务描述 !H<%X~|, Rha|Rk~
`%EcQ}Nr #K/JU{" 光波导元件 ledr[) tkkh<5{C
使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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ls7P$qq 光波导结构 }' sW[?ik N9y+Psh 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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}= 8?x:PkK 光栅#1:一维倾斜周期光栅 /L5:/Z jA[")RVG Zm7,O8 几何布局展示了2个光栅:
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JNJ6HyCU •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
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0|!g"E>$ •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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ry@p hE$3l+ 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 x25zk4- Df:/r% v-^tj}jA 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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*!{&n*N `&xdSH 可用
参数:
KaHe( •周期:400纳米
F-
u"zox •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
qDhZC*"9#D •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
<RY!Mc •倾斜角度:40º
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01uj-!D$@ z"QXPIXPk [?;L 总结—元件 B., BP `Mcg&Mi~ f5l\3oL 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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</?ef& o@]n<ZYo 可用参数:
rKdsVW •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
*.+F]- •调制深度:100nm
]` A*7 •填充系数:65%
PMW@xk^<Y •菱形网格的角度:30°
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DIWyv- pF8:?p['z 总结——元件 OL:hNbw'~T ,Mi'NO
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ZrA*MN 6Yt3Oq<U 结果:系统中的光线 `w8cV? \Cin%S.C
Gl45HyY_ N2k{@DY 结果:
LTH,a?lD XFl&(I4tB
hE'7M; oWi#?' 结果:场追迹 SkVah:cF- Z?3B1o9
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le& VirtualLab Fusion技术 Zy:q)'D= nGc'xQy0