使用半导体光刻工艺量产平面透镜的详细步骤: _$W</8<
一、设计阶段 *jBn
^
首先,根据平面透镜的预期用途(如成像、聚焦等),使用光学设计软件(如 Zemax、Code V 等)来确定透镜的光学参数。这些参数包括焦距、数值孔径、工作波长范围等。例如,对于一个用于可见光成像的平面透镜,可能需要设计其焦距为 5mm,数值孔径为 0.3,工作波长在 400 - 700nm 之间。 ,%|$#
g 0
根据光学设计结果,生成透镜的表面轮廓数据。这个轮廓数据描述了透镜表面的高度变化,通常以数字形式存储,它将作为光刻工艺中的图案设计基础。 :4{;^|RgU
光刻掩模设计 EmaVd+Sw
基于透镜的表面轮廓数据,设计光刻掩模图案。光刻掩模是一种带有特定图案的模板,用于在光刻过程中控制光线的曝光区域。 l&