[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 H0vfUF53l  
,r_Gf5c  
I{=Qtnlb  
=Nr-iae#  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 mj7#&r,1l  
19%imf  
元件内部场分析仪：FMM ?(_08O  
8P\Zo8}v  
ysnx3(+|  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 +]{G@pn  
>Y@H4LF;1x  
评估模式的选择 h^P#{W!e\  
   {
(Es(Sb}c  
^E>3|du]O  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 '[%j@PlCX  
Y"$xX8o
  
评价区域的选择 uHRsFlw  
   Z*6IW7#  
[AJJSd/:  
>9Vn.S  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 lNO;O}8  
V0a3<6@4  
不同光栅结构的场分布 -jmY)(\  
`N8O"UcoBo  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： )NT*bLRPQ  
sU^1wB Rj  
<(#ej4ar,  
光栅结构的采样 6j|{`Zd)G  
w5 Li&m  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 0#gK6o!  
2y1Sne=<Kb  
DzRFMYBR  
pEz_qy[#  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 %E;'ln4h&,  
X2'0PXv>!  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 ;8 lfOMf  
m+$VVn3Z}  
K3l95he  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） P[fq8lDA  
NvX[zqNP_R  
lH~[f  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 G=bCNn<  
~pky@O#b  
输出数据的采样：二维周期光栅 <(!:$  
>^{yF~(  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 +1!ia]