摘要 d .+vjMI
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1E 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
GWhZ Mj 5A)w.i&V 元件内部场分析仪：FMM 08f~vw" kgI Wgk% 8iCI s=06 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
!69^ kIi$ `~RV 评估模式的选择 2 9]8[Z,4 9t[278B6 N!v@!z9 Mu 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
}.'%gJrS 1Q%.-vs 评价区域的选择 @v'D9 ? gv,T<A?Z2 
E, |n' EzyIsp> _ 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
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wE)XE A)#sh)
}Q 不同光栅结构的场分布 w(U/(C7R +wSm6 *j7= 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
L7g& ]% $P -m6 oL@ ou{iQ 光栅结构的采样 > (CoX SV5 JXAyF6
$ 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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z|<oxF. { Y"r]:5i 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
/$z@_U [L 6'ZnyWb 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
&V3oW1*W i6CYD HH#i.s2 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） \k=Qq(= Mh|`XO.5I qtN29[x 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
!S!03| ~K96y$ DTE 输出数据的采样：二维周期光栅 }Yl=lc vw
D.o|($S0 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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