摘要 zo4qG+>o
N/MUwx;P
E2Q [ZoVS xe^Gs]fm 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
H}hiT/+$ s T}. v* 元件内部场分析仪：FMM xLK<W"%0 tp6 3@L|Q +JjW_Rl?=V 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
EK6:~ 0Ziw_S\d&s 评估模式的选择 K/IWH[ @$[?z9ck" i3 @)W4{ 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
ahJ`$U4n CxwoBuG=? 评价区域的选择 Mygf T[_ [YlKR'_ 
t gI{`jS% xMT Kf+7 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
`4=^cyt+ 0jy2H2 不同光栅结构的场分布 O$_)G\\\m >\KNM@'KI 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
3G}x;Cp\D l]Ax : Z (k5We!4[ 1 光栅结构的采样 L^@'q6*} ~A'!2 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
F \KjEl0 4T|b
Cs?e 
c;Pe/ d M2OIB H4! 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
a_f ~N1kq PgtJ3oq [} 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
ON=@ O "{@A5A kMi/ >gpQ 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） K1 EynU
I B-ngn{Yc X' H[7 ^W 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
l;R%= P?'F <D<4BnZ( 输出数据的采样：二维周期光栅 I*{4rDt CZud&
< 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
e!N:,`R
5
