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摘要 ?gD^K,A Hd XT+V> HI 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 v,]-;V~< PgHe;^?j
GWd71ZtFO *Cf5D6=Q 任务说明 5XtIVHA@{ %x{jmZ$} R `K1L!`3 ~i_YrTp 简要介绍衍射效率与偏振理论 ,^wjtA3j8 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 [QUaC3l) 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Kcl~cIh7 7 # `L?24% 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 PzF>yG[ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: gi {rqM +q*WY*gX 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 vo(riHH =)b!M^=X-a 光栅结构参数 (:er~Y} 研究了一种矩形光栅结构。 (E(J}r~E 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 R?62gH 根据上述参数选择以下光栅参数: <8)cr0~zy> 光栅周期:250 nm da'1H 填充因子:0.5 nMM:Tr 光栅高度:200 nm pSa
pF)1> 材料n_1:熔融石英(来自目录) 2P,%}Ms 材料n_2:二氧化钛(来自目录) d)>b/0CZ &ci;0P#Q !#y_vz9 5]f6YlJZ 偏振态分析 L`3;9rO 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 c,j[ix 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 s@02?+/ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 WU$l@:Yo @bRKJPU9) iWGn4p' Efp[K}Z^$ 模拟光栅的偏振态 Lm&BT)* 3QI. |;X
i2P:I A|@ Talmc|h 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: >\?RYy,s$ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 I3qTSX- 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 ;~,)6UX7 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 P9
w);jp; j
D kBe-` Passilly等人更深入的光栅案例。 Nn#;Kjul. Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 yQcIfl]f 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 k*4!rWr0r& DuQW?9^232
3ncN)E/@ *qZBq&7tb 光栅结构参数 D wfw|h 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 #=V\WQb 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 (nu;o!mo9 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 3ytlD ' 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ;&dMtYb
x,NV{uG$n HDO_r(i 光栅#1——参数 f"z;' 假设侧壁倾斜为线性。 !o`riQLs> 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 }
fa 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 Xhs*nt%l 光栅周期:250 nm ~ <36vsk 光栅高度:660 nm dY{qdQQ} 填充因子:0.75(底部) `mthzc3W 侧壁角度:±6° !bIE%cq n_1:1.46 1'!D
n_2:2.08 d@%PTSX _WR/]1R
B.C:06E5 bU \T 光栅#1——结果 7,s5Gd- 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 IISdC(5 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Ft^X[5G4L Vx{
i}e/!IVR3 a/</P
|UG 光栅#2——参数 M._;3_)%/ 假设光栅为矩形。 )Ma/]eZ^I 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Eunmc 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 |xF!3GGms 光栅周期:250 nm OZ33w-X< 光栅高度:490 nm U[? f@.& 填充因子:0.5 w^9< I] n_1:1.46 vb|
d n_2:2.08 f/QwXO-U aL*}@|JL" lMl'+ yy \ Q^grX 光栅#2——结果 $h}5cl 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 vjzG
H* 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 cm0$v8 p~NHf\ b0/YX@
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