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摘要 Xc$Zkfmms "fC>]iA8I 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 P)O:lYX 4BZ7R,m#. P1^O0) S3s6 任务说明 %-[*G;c'w mD%IHzbn
H ?)H:.]7-x @F/,~|{iM 简要介绍衍射效率与偏振理论 .,f]'!5 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Sx1|Oq] 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 1DlXsup&?# <cO
`jK 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 2BiFP|| 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: |I;]fH,+
[?bq4u` 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为。 &eb8k2S 5Z:T9F4 光栅结构参数 %, S{9q 研究了一种矩形光栅结构。 j`#H%2W\; 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 yqH9*&KH{ 根据上述参数选择以下光栅参数: tt|P-p- 光栅周期:250 nm |;\pAZ2 填充因子:0.5 <zm:J4&>T 光栅高度:200 nm i-?mghe8 材料n_1:熔融石英(来自目录) eVd:C8q 材料n_2:二氧化钛(来自目录) bVzJOBe _
^'QHWP NLu[<u U* +F.@n_}p-I 偏振态分析 /|3~LvIt= 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 (b.4&P"0 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 J #5V>7G 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 zK>m4+)~ ^CgN>-xZ?# SYh>FF" ss6{+@, 模拟光栅的偏振态 L9oLdWa(C -q8l"i>h= BLAF{vVaf W>qu~ak?x 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: .IM]B4m 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 &3J^z7kU 对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 =[zP 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 EdTL]Xk ;kWWzg Passilly等人更深入的光栅案例。 :iGK9I Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 JLz32 %-M 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 y4r?M8]"r 'nq~1 >i 9_4(}|"N| @.c[z D 光栅结构参数 5;G0$M0 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 )\PX1 198 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 5%4yUd#b 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 @!j6y(@ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 $|7=$~y !@wUARQ :_]0 8 光栅#1——参数 gz~ug35 假设侧壁倾斜为线性。 gs7_Q 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 UbGnU_} 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 )q.ZzijG/ 光栅周期:250 nm _ker,;{9C 光栅高度:660 nm edCVIY'1 填充因子:0.75(底部) j%D{z5,nKm 侧壁角度:±6° Z_edNf}| n_1:1.46 ZHUW1:qs n_2:2.08 ;MK|l,aIQ :475FPy] M X?UmQ' _cC1u7U9 光栅#1——结果 fI2y(p{? 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 _Pa@%/ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 9;uH}j8sE 7E#h(bt j Y0-?"R8 !syyOfu`} 光栅#2——参数 p&u\gSo 假设光栅为矩形。 ,3iD/8_ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 `B&=ya|bl 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 It/hXND` 光栅周期:250 nm oM^vJ3 光栅高度:490 nm ki }Li*)7 填充因子:0.5 a&2x;diF n_1:1.46 GVu[X?q@| n_2:2.08 #8
^b] b<#zgf -5]lHw} BzH0"xq^ 光栅#2——结果 =8TBkxG 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 ;$1x_
Cb 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 X2 ;72 ;@Z1y nT2b"wkTT
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