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摘要 zmI5"K"'F iK!dr1:wSw 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 b3\B8:XFo| HT"gT2U+
(SF1y/g@= H`-=?t 任务说明 xuUx4,Z vZ@g@zB4o0 .+yW%~0 uEx9-,! 简要介绍衍射效率与偏振理论 %c X"#+e 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 d+6]u_J 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: R\5Vq$Q ne4c%?>t 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 <Ct_d
Cc 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ;,XyN+2H Uk,g> LG 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 h*Je35
.:y5U}vR 光栅结构参数 +`.,| |Mq 研究了一种矩形光栅结构。 t`5j4bdG 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 ZenPw1 - 根据上述参数选择以下光栅参数: 5M:D?9E+ 光栅周期:250 nm KE.Dt 填充因子:0.5 "MnSJ2 光栅高度:200 nm b9Y_!Qe 材料n_1:熔融石英(来自目录) 8o|P&q(v* 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ^Kqf~yS% ]^K;goQv y+U83a[L* k_aW 偏振态分析 x<ax9{ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 | o0RP|l 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 s;Y<BD 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 iW;i!, pu4,0bw nt ,7u( \Q&,ISO\ 模拟光栅的偏振态 &yIGr`; g97]Y1g
T3N"CUk 1 ] #9
瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 8TWTbQ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 2YOKM#N] 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 gU1 #`r>[) 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 \+nGOvM *:hyY!x Passilly等人更深入的光栅案例。 "A3dvr Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 H&4~Uo.5 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 riCV&0"n )oU)}asY
7:Ztuc] osHCg 光栅结构参数 qlsQ|/'D 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ?&X6:KJQ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Tu m_aI 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 K84^Oq 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 bRo|uJ:d
nJZ6?
V jQh^WmN 光栅#1——参数 sL^yB 假设侧壁倾斜为线性。 ~i0R^qfr 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 \9{F5Sz 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 \Kavw 光栅周期:250 nm aFj.i8+ 光栅高度:660 nm q%/uQT? 填充因子:0.75(底部) 4Ysb5m)u 侧壁角度:±6° .Zmp , n_1:1.46 pyZ9OA!PD n_2:2.08 =!b6FjsiG },@^0UH4c
d8o53a] ?GT@puJS- 光栅#1——结果
V@vU" 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 mD58T2Z 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 {~Tg7<\L w:i:~f .
ZC0-wr\ %O[N}_XHEh 光栅#2——参数 Uh6 '$0 假设光栅为矩形。 FMw&( 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 hJ;$A*Y 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 u1^wDc*xg 光栅周期:250 nm NjuiD]. 光栅高度:490 nm YT#3n 填充因子:0.5 3gZ8.8q3 n_1:1.46 M8&}j n_2:2.08 ,e722wz IE2"rQ T DKL@wr}8 YB( Gk;] 光栅#2——结果 hT g<* 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 v Gy8Qu> 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 &a0r%L()X .Ajzr8P 6IcNZ!j98
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