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摘要 /%AA\`:6 hR,5U=+M7 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 q>m[vvt" zKQXmyO [bjP-pX nTHCb>,vM 任务说明 DpIk$X 3K%_wCZ 8u"HW~~= $s,(-C 简要介绍衍射效率与偏振理论 S"%W^)mZ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 !H(V%B% 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: \R,8xID_t *l)}o4-$ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 rSKZc`<^ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 8@]vvZ2/gj YXIAVSnr 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为。 _+d*ljP)l3 [s F/sa3 光栅结构参数 Z`>m 研究了一种矩形光栅结构。 Asli<L(?` 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 lI;ACF^ 根据上述参数选择以下光栅参数: ~N8$abQJV 光栅周期:250 nm 4S*dNYc 填充因子:0.5 Bh7dAV( 光栅高度:200 nm l8+;)2p! 材料n_1:熔融石英(来自目录) Svm'ds7> 材料n_2:二氧化钛(来自目录) $ZRvvm!f LUEZqIf 3ZhuC".c v_,'NA0 偏振态分析 Q@/Z~xw"'I 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 !f G}<6&i 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ;]_h")4"c 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ?L6pB]l8b HJ;!'@ [#;CBs5o S^nI=HTm 模拟光栅的偏振态 +O@|bd\ Tb!jIe Nq#B4Zx c. }#.-b8 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: j>Cp4 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 )F4BVPI 对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 fy={ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 MbXtmQ%C8 mJ+mTA5bW Passilly等人更深入的光栅案例。 6b\JD.r*{ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 B[fbP rM 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 f}7/UGd $tDM
U3,W lbMok/a2o ;8yEhar 光栅结构参数 j{Sbf04 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 wS+j^
;" 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Gq{ );fq 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 B4x@{rtER 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 HrHtA] 5?8jj a'?V:3 ] 光栅#1——参数 WZcAwYB 假设侧壁倾斜为线性。 U P*5M 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 sU"sd7#A 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 Jn"ya^~ 光栅周期:250 nm t_id/ 光栅高度:660 nm FA1h!Vit 填充因子:0.75(底部) uIR/^o 侧壁角度:±6° N[;R8SP n_1:1.46 %Q zk aXJ n_2:2.08 rtz ]PH ]:~z#k|2@6 Pp`[E/
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.;F 光栅#1——结果 ex8}./mjJ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 dlBr2 9 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 co{i~['u r}-vOPn`E _Q7]Dw/w\ `+@r0:G&v 光栅#2——参数 b?k6-r$j 假设光栅为矩形。 p']{WLDj2 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 j9&x#U 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 u^( s0q 光栅周期:250 nm t(xe*xS 光栅高度:490 nm Xr{
r&Rl 填充因子:0.5 lF~!F<^9 n_1:1.46 5W(`lgVs, n_2:2.08 >Zh^,T={G B* k|NZj q>[}JtXK 8}?w%FsN# 光栅#2——结果 LrdX^_,nt 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 *kt%.wPJ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ESni r6HoU zin'&G>l cpM]APF-
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