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摘要 ;$67GK Ss3~X90!*B 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 0a2#36;_IK 1QPz|3f@\
`MHixQ;j Kk,u{EA 任务说明 qe5;Pq !G :PK2!
0nK {PkR6.XhR 2Ab`i!# 简要介绍衍射效率与偏振理论 VU1Wr| 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Xf[;^?]X 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: EiDnUL(W7h J|F!$m{ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 !"ir}Y% 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 0#NbAMt }qJ`nN8 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 wRZFBf~
: l cM 光栅结构参数 29l bOi 研究了一种矩形光栅结构。 C[';B)a 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 r0@s3/ 根据上述参数选择以下光栅参数: *&tTiv{^ 光栅周期:250 nm 3mHP=) 填充因子:0.5 Vry*=X&Q 光栅高度:200 nm njaKU?6%d2 材料n_1:熔融石英(来自目录) XSCcumde! 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ^ZIs >.' ?,]eN&` HRyhq;C Z&4L/// 偏振态分析 >X*G6p 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 E`.:V<KW/ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 3ZN\F 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 d+vAm3.Dg K%W;-W*' )H`V\H[0P \=P(?!v 模拟光栅的偏振态 i8KoJY" &^w"
,xR u74 ,@fx[5{ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: upaQoX/C 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 89j:YfA=v 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 N]14~r= 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 `e`DSl D> R)4,f~@" Passilly等人更深入的光栅案例。 +*Fe Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 L&rtN@5; 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 pN_%>v"o ll[&O4.F
itE/QB Wsp c;]& 光栅结构参数 y\4/M6 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 w ~"%&SNN 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 :yE0DS<_ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 \3]O?' 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 86 9sS
Jamt@= EiaP1o 光栅#1——参数 "Bwmq9Jq 假设侧壁倾斜为线性。 'r(g5H1}gi 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 "LH!Trl@k 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 jse!EtB: 光栅周期:250 nm a\~118 ! 光栅高度:660 nm miTff[hsMa 填充因子:0.75(底部) {;th~[ 侧壁角度:±6° $iMLT8U n_1:1.46 4;>HBCM4- n_2:2.08 ^7*7^< G;J)[y
@v:Eh 9ZG:2ncdJ 光栅#1——结果 DajN1}] 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 I-1NZgv 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 +S+=lu _
H:9G/Nev
| lZJt Ycx}FYTY 光栅#2——参数 eE=2~
ylU 假设光栅为矩形。 Ud2Tn*QmI 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ADVS}d!;] 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 9[W >`JKo 光栅周期:250 nm VXlAK( 光栅高度:490 nm GKOl{och 填充因子:0.5 BX6kn/i
n_1:1.46 Hq,@j{($ n_2:2.08 8h4]<T #U7pT!Fx 4eG\>#5 ~'0ZW<X. 光栅#2——结果 61_-G#W 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 )''V}Zn.X 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 q_ryW$/_ _%Ua8bR$ GQJ4d-w
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