示例.0012(1.0)
@kqxN\DE 3o%vV* 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
_r*\ BM8y p 1'l D 1. 描述 mK[Z#obc= ?: yz/9( 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
<Gi%+I@szl 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
=FrB{Eu 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
3R3H+W0{ — 预设公式
d_,5;M^k — 测量数据
Zd6ik&S
— 用户自定义的公式
;:fW]5"R 光源没有输入且只有一个输出通道。
wSN9`" VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
x9vSekV @PEFl" 2. 光路图中的光源 Y%.o
TB& 9%"7~YCDas
#$I@V4O;# j#1G?MF 3. 光源-基本参数 "XR=P>
xk
X0VSa{
%.Ma_4o
Z vR!+ 8sy$ H#~gx_^U 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
iT>u&0B- 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
mG jB{Q+ 用户可以直接定义光源后的介质。
; :P4~R 支持以下附加配置:
H~a
~'tm — 场尺寸
~5f&<,p! — 场形状(矩形,椭圆)
YYv0cV{E — 边缘宽度(切趾)
>fH0>W+! >R+-mP!nj 4. 光源-场尺寸和形状 j
uA@"SG ~U0%}Bbh 大多数分析的光分布都是无限扩展的
-&Z!b!jN 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
n#lbfN 4 VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
N1a]y/
通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
fp)SZu_* 场尺寸可自动定义也可手动定义。
V\cbIx(Z^ 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
r5}p . BJj'91B[d
~_\Ra% U.e!:f4{ 5. 光源-空间参数 ~"#0rPT
hdPGqJE
5/=$p:E> q)?%END uUI#^ A 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
k=]e7~! (Q*q#U 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
>jW**F \ 'm7un 6. 光源-偏振 AY AU
+
[w 0;W_
j3Od7bBS] kE&R;T`Gb% 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
74Jx \(d 以下偏振类型可用:
16iTE-J_ — 线性偏振(输入到X轴的角度)
kL'4m — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
X+4Uh
I — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
kR<sSLEb — 一般的(输入琼斯矩阵)
yu;EL>G_AY 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
Bhv;l/K]) LT%~Cuf 7. 光源-光谱参数 U,WOP7z
`% 9Y)a/e
/5,6{R9 JHxcHh 用户可以在3种不同的的模式中选择
xV>
.] — 单
波长(单色仿真)
G_F_TNO — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
mdc?~?? 8 — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
F5*-HR 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
n!4}Hwz! o?a2wY^_ 8. 光源-光谱生成器
b] 5dBZ( -'&l!23a~
{!I`EN] x1@,k=qrd 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
b `P6Ox3 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
1uo-?k O60T.MM` 9. 光源-采样 OLG)D#m(4/ $O |Xq7dp C6e5*S 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
]xS%Er 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
[vu;B4^"
AF:_&gF 7J9<B5U 自动采样建议可以使用采样因子来修改
E2zL-ft. 如果需要,用户也可以手动定义采样。
s)\PY 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
\n}%RD-Ce 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
.U{}N%S 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
~BI`{/O= =d;a1AO{&
)v(rEY
(cVIjo+:: -c>3|bo 数组通过以下定义:
4zs0+d+ warray—>数组尺寸
pW[TufTa wfield size—>场尺寸
Wps^wY wedge width—>绝对边缘宽度
W%rUa&00 ∆x —>采样距离
%RW*gUvc] Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
'l<#;{ ]+G
.S-a 10. 光源-光线选择 $}4ao2
}X9&!A8z
i6bUJtL 1Ne;U/ !~zn*Hm 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
%|4Kak]:Q 支持以下光线模式:
%0&,_jM/9 — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
Lq3<&$ — 六角形(定义光线的密度)
@Ov}X]ELi — 随机的(随机分布的光线数量)
c6b51)sQ" ~JRq : 11. 光源-模式选择 CL7_3^2qI
/Igz[P^\9
?jmL4V2-f 2a-]TVL3 vAP1PQX; 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
%S%UMA. 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
qbc= kP 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
{yNeZXA> l>|scs;TI 12. 在主窗口中生成光源 $mT)<N ;w
3B]E2
ByE@4+9 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
,OrrGwp& 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
?yG[VW B|o@|zF
WXo bh I>8_gp\1 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
fNda& 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
n3?
msY(* BW)@.!C 13. 总结 1Y"9<ry ydVDjE
Y VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
SWtqp(h]' 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
bR}fj.gP VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。