示例.0012(1.0)
uOFnCy 4 5v3RVaqZ 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
yl]UUBcQ !%wdn33" 1. 描述 ?rQc<;b (Xj.iP 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
Oj-r;Tt_G} 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
}1F6?do3& 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
5}7ISNP;f — 预设公式
,02w@we5 — 测量数据
P{Lg{I_w.B — 用户自定义的公式
c>rKgx 光源没有输入且只有一个输出通道。
AI~9m-,mE VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
Ysl9f1>% -)6;0 2. 光路图中的光源 %i3{TL uR^.
1I
b_Kmb- `1q|F9D 3. 光源-基本参数 m\ ?\6Wk
jJc07r']
@sdS0pC |e+aZ%g u6pIdt 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
dxntGH< O 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
!%V*UR9 用户可以直接定义光源后的介质。
/L$NE$D} " 支持以下附加配置:
D Kq-C% — 场尺寸
pkW5D — 场形状(矩形,椭圆)
&\c5!xQ9* — 边缘宽度(切趾)
&8afl"_~ ozuIwzi7N 4. 光源-场尺寸和形状 "5h_8k~sQ cP J7E 大多数分析的光分布都是无限扩展的
,$ mLL 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
^9s"FdB]24 VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
uD[^K1Ag]^ 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
YLigP"*~^ 场尺寸可自动定义也可手动定义。
3r`<(%\ 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
6$DG.p aTX]+tBoe
G_0)oC@Jl: Uqr{,-]5v 5. 光源-空间参数 d _uFY:
rX:1_q`xA
UFL0 K m3B\)2B \wFhTJY 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
|w4(rs- _Po#ZGm~ 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
pb6 Q?QG, '/dTqg*W 6. 光源-偏振 \DaLHC~
$=lJG(2%
FJW`$5? ~%/'0}F 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
0T=jR{j!o 以下偏振类型可用:
tgc@7 — 线性偏振(输入到X轴的角度)
Iht@mE — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
]2P/G5C3tU — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
Xa>}4j. — 一般的(输入琼斯矩阵)
}0vtc[! 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
W;91H'`?H Bg5;Q) 7. 光源-光谱参数 8dlInms
z(#=tC|
??q!jm-m `9:v*KuM#R 用户可以在3种不同的的模式中选择
Z5yt]-WN& — 单
波长(单色仿真)
f x%z|K — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
HuK Aj — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
+A&EKk%$ | 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
{rs6"X^ [9w, WJL 8. 光源-光谱生成器 $+iu\MuX ~>4@;
V2lp7" v]l&dgoT 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
p_A5C?& 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
W6)dUi
:" t
CkoYrvT 9. 光源-采样 :~-)Sm+^ \\y}DNh sb8z_3 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
(/To?` 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
|+>%o.M&i
h 3eGq:!9 e =0l<Rj 自动采样建议可以使用采样因子来修改
S83]O!w0 如果需要,用户也可以手动定义采样。
6JUav."`~ 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
-WQ_[t9l 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
XB6N[E 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
k];L!Fj1 *7)S%r,?
YK(XS"Kl
FZM
]o D!81(}p 数组通过以下定义:
Kc%tnVyGh: warray—>数组尺寸
*2w_oKE'+5 wfield size—>场尺寸
i!s~kk wedge width—>绝对边缘宽度
`;zu1o ∆x —>采样距离
XfD
z
# Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
u>JqFw1 m$j
n5: 10. 光源-光线选择 ^yzo!`)fso
=d:R/Z%,
<K|3Q'(S xc:`}4 qz-#LZFTR 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
D?^`(X P 支持以下光线模式:
'YBLU )v[ — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
DQL06`pX/ — 六角形(定义光线的密度)
Q1P,=T@ — 随机的(随机分布的光线数量)
vE^h}~5U ,%"\\#3S 11. 光源-模式选择 I{i:B
;m2"cL>{l
1]a*Oer} +9=@E > Z.TM=qj 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
WHhR)$zC 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
]6?c8/M 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
X_^_r{ ="'rH.n # 12. 在主窗口中生成光源 eG[umv.9b
*il]$i
. }-@;:yh 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
f 4
Sw,A 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
Bd N{[2 iXr`0V
1@1+4P0NF[ ^`hI00u( 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
:N+K^gI) 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
c_D,MW\IC -.+KCt G$+ 13. 总结 T_YMM'` gMoyy VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
TnMVHO- 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
;|;h9" VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。