课程编号CS240016 /{d7%Et6 9Rzu0:r., 时间地点 :U0z; W7S`+Pq 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司
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授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天 AM 9:00-PM 16:00
/^ i7^ 授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
N{tNe-5 课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问
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U! Q7J 课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
TV#pUQ3K .4Jea#M&x 特邀专家介绍 -k|r#^(G2 
% /CCh;N# 易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空
镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。
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0 课程简介 ux& WN , AwAUm 2^ 随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计
模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
CQW#o_\ 0ym>Hbax) 课程大纲 GP<A v1 i!LEA/"V 1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍
软件 MVs@~= 1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能
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1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann）
y>3Zh5= 1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图
/9, !)/j 2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
JZNRM xu 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
3. 材料管理 O[U^{~iM 3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取
u K6R+a 3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取
@Z& El:]3> 4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考
波长与g
z8G1[ElY 4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图
z Xx H aM 4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展
<La $'lG4J 4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置
X+ z!?W *a 4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接
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/`*GC 5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜
7+0Kg'^+n 5.2 分光膜5.3 高反射膜
U$&G_&*0a 5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片
1N{ }G$'Go 5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
6oMU) DIa 5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜
eRKuy l 5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明
N_rz~$|@9 6. 薄膜性能分析6.1 电场分布
RSC^R}a5 6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程
{?!=~vp 6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真
7. 真空技术 J]yUjnQ[h 7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏
dl mF?N|EC 8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术
1@rI4U@D 9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素
}:<`L\8q\ 9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术
; gLHSHEA 10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题
AE?M Eag 10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术
Mrysy)x 11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜
光谱测量
[-5%[ty9X 11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量
OC3 4@YUj[ 11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析
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