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    [培训]线下课程——薄膜设计与镀膜工艺(12月4~6日)上海 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-14
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    课程编号CS240016                                                                             yH9(ru  
    nzcXL =^r3  
    时间地点 d~0k}|>  
    G!G]*p5  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 6Z}8"VJr {  
    授课时间:2024年12月4 (三)-6(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 o_i N(K  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 :637MD>5lO  
    课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 w \U?64  
    课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐) xWiR7~E  
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    特邀专家介绍 Bu]PNKIi  
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    易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 762c`aP_(  
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    课程简介 iAl.(j  
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    随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 'vP"& lrn  
    K Y=$RO  
    课程大纲 x\i+MVR-  
    B7 #O>a  
    1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍软件 p.ks jD  
    1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能 S/2lK*F  
    1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Qo5yfdR  
    1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图 +~7x+6E  
    2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 p0|PVn.^h  
    2.2 后表面对光学薄膜特性的影响3. 材料管理 ['%$vnS5S  
    3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取 )` ^/Dj;  
    3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取 A!:R1tTR;S  
    4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考波长与g Ux!q(9<_  
    4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图 Clo}kdkd_  
    4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展 /a .XWfu  
    4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置 VE $Kdo^  
    4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)4.6.3 膜层锁定和链接 yADX^r(  
    5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜 \dHdL\f  
    5.2 分光膜5.3 高反射膜 G'<Ie@$6l  
    5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片 '44I}[cA/  
    5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 SR$?pJh D%  
    5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜 P-_2IZiz  
    5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明 }~+q S`  
    6. 薄膜性能分析6.1 电场分布 U&'Xs z  
    6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程 O:{N5+HVG  
    6.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真7. 真空技术 [W8"Mc|ve  
    7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏 ev[!:*6P  
    8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术 ml1My1  
    9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素 }v`Z. ?|Z  
    9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术 Njmb{L]Cps  
    10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题 aInh?-  
    10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术 3-T"[tCe  
    11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜光谱测量 "MPr'3  
    11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量 g@Z7f y7  
    11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 >h9T/J8  
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