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    [培训]线下课程——薄膜设计与镀膜工艺(12月4~6日)上海 [复制链接]

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    课程编号CS240016                                                                             \%D/]"@r  
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    时间地点 #4<Rs|K  
    F( Iq8DV  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 AmmUoS\  
    授课时间:2024年12月4 (三)-6(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 (qM(~4|`  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 QX j4cg  
    课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 E _DSf  
    课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐) $5)ZaYx<  
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    特邀专家介绍 tu6Q7CjW8  
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    易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 aZMMcd   
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    课程简介 4d*=gy%  
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    随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ?!J{Mrdn  
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    课程大纲 mnM!^[|z  
    .v3~2r*&  
    1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍软件 Iq-+X3i  
    1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能 okO^ /"  
    1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) $m;rOKVU  
    1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图 8[|RsM   
    2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 S>oQm  
    2.2 后表面对光学薄膜特性的影响3. 材料管理 [z1[4  
    3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取 hK t c  
    3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取 ^&W(|R-,J&  
    4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考波长与g q{W@J0U  
    4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图 *y;(c)_w/%  
    4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展 fQ^45ulz  
    4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置 2Rp5 E^s  
    4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)4.6.3 膜层锁定和链接 y0R5YCq\":  
    5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜 t9zF WdW  
    5.2 分光膜5.3 高反射膜 BQ ol>VRu  
    5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片 V.RG= TVS  
    5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 Z~VSWrw3  
    5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜 9*+%Qt,{B  
    5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明 5mD]uB9  
    6. 薄膜性能分析6.1 电场分布 $Y!$I.+  
    6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程 CmNd0S4v  
    6.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真7. 真空技术 8yH*  
    7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏 /OpVr15  
    8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术 DJv;ed%x  
    9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素 =jX'FNv#  
    9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术 Ed%8| M3  
    10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题 g $\Z-!(  
    10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术 RQZ|:SvV  
    11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜光谱测量 mE"?{~XVL  
    11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量 l0m\2Ttf  
    11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Z2]ySyt]  
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