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    [培训]线下课程——薄膜设计与镀膜工艺(12月4~6日)上海 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-14
    &8 x-o,  
    课程编号CS240016                                                                             Tu7QCr5*  
    09Cez\0  
    时间地点 O1mKe%'|  
    WeiFmar  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 >e"#'K0?\  
    授课时间:2024年12月4 (三)-6(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 N8FF3}> g  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 VU d\QR-  
    课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 XvlU*TO~(~  
    课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐) U`m54f@U  
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    特邀专家介绍 7Rt9od< )!  
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    易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 !I Qck8Y  
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    课程简介 j,dR,Nd  
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    随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ^]-6u:J!  
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    课程大纲 Per1IcN  
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    1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍软件 cpJ|w3x B  
    1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能 A$:U'ZG_  
    1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) q#=(e:aCb  
    1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图 /d<P-!fK  
    2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 \)?HJ  
    2.2 后表面对光学薄膜特性的影响3. 材料管理 YV anW  
    3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取 =>af@C.2  
    3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取  1HZO9cXJ  
    4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考波长与g =zKM=qba  
    4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图 <<R*2b  
    4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展 V% 6I\G2/:  
    4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置 KNIn:K^/  
    4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)4.6.3 膜层锁定和链接 QW(Mz Hg  
    5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜 }d}Ke_Q0  
    5.2 分光膜5.3 高反射膜 "5wa91*  
    5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片  O+Y6N  
    5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 u($ !z^h  
    5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜 <3C*Z"aQ>|  
    5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明 p sMvq@>  
    6. 薄膜性能分析6.1 电场分布 (c &mCJN  
    6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程 FE|JHh$  
    6.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真7. 真空技术 "mvt>X  
    7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏 +s DV~\Vu  
    8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术 JHTSUq  
    9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素 h'&%>Q2  
    9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术 \Et3|Iv  
    10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题 u frL<]A  
    10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术 >_"an~Ss  
    11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜光谱测量 orMwAV  
    11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量 'Xq| Kf (  
    11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 'F0e(He@,  
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