摘要 6~tj"34_ V(P 1{g 复杂
光学光栅结构被广泛用于多种应用,如
光谱仪、近眼显示
系统等。利用傅里叶模态法(FMM,或称RCWA) VirtualLab Fusion 提供了一种用于任意光栅结构严格分析的简单方法。利用图形用户界面,用户可以设置堆栈的几何形状,从而产生复杂的光栅结构。本案例主要集中于具有二维周期光栅结构的配置。
qc"PTv0q
z6uHe{| 1. 本案例主要说明:
^7iP!-w/ 如何在光栅工具箱中配置二维光栅结构,通过:
qx";G - 基于介质的定义类型
!P@4d G - 基于表面的定义类型
eZMfn$McJv 计算前如何改变高级选型并检查定义的结构。
pIl[)%F 注意:在VirtualLab中,具有二维周期性的光栅结构称作3D光栅。因此,层状光栅(一维光栅)被称为2D光栅。
{+jO/ZQu5 yII+#?D 2. 光栅工具箱初始化 0;tu}]jnN 初始化
.tA=5QY, - 开始→
Tl L\&n.$ 光栅→
x<1t/o 一般光栅光路图(3D光栅)
=h,J!0Y 5`Y>!|
Ab
BE)&.}l 注意:对于特殊类型的光栅,如柱状光栅,可以直接选择特定的光路图。
EL(BXJrx{ iiv`ji 3. 光栅结构配置 }#phNn6 首先,必须先定义基底的厚度与
材料 0.0r?T 在VirtualLab中,光栅结构有一个所谓的堆栈进行定义
SS!b` 堆栈可以附属在基底的一侧或两侧。
3hfv^H 例如,堆栈选择附属在第一表面。
{=6CL'_
L b-xc] 基于介质的定义类型 h(p cGE (例如:柱状光栅)
~T!D:2G 1. 堆栈编辑器
H^<?h6T 在堆栈编辑器中,可以从库中增加和插入界面和介质。
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`,#z?Rk 为了以特殊材料定义光栅,必须添加两个平面界面作为边界。
J~)JsAXAI 5h6-aQU[
~(]'ah, !im%t9 两个平面界面间的介质可以使均匀的,也可以是调制的。
J3hhh(
通过使用后者,可以非常有效地描述复杂的光栅结构,如柱状光栅。、
m O"Rq5
{EJ+
)i[K1$x2 2. 柱状光栅介质 WF-^pfRq~ 在库目录“LightTrans Defined”中,在柱状介质库中可以找到铬柱。
Y8for' 这种类型的介质可以
模拟柱状结构以及衬底上的销孔。
F]cc?r312
B C R]K 在本例中,由铬组成的矩形柱位于熔融石英基底上
,15$$3z /E 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。
lL&p?MUp 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。
M$e$%kPShE 请注意:界面的顺序总是从基板的表面开始计算。
'![VA8 选中的界面以红色高亮显示。
F41g Mg 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。
;ZTh(_7
[6)vD@ 可以在光学设置编辑器中更改此材料。
xP &@|Ag z8
K#G%,:
M7ug<
8i 堆栈周期允许控制整个配置的周期。
!L)yI#i4C 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。
=Ds&ArG 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。
EGjzjuJu{
j#${L6 3. 柱状光栅介质参数 /UtSZ( 通过以下参数定义柱状光栅:
5;A=8bryU
eNrwkV^ 基材(凹槽的介质)
aZCxyoh + 柱状材料(脊的材料)
5D>cbzP@ 柱的形状(矩形或椭圆形)
Pz-=Eq x方向(水平方向)柱距
x5,|kJ9S y方向(垂直方向)柱距
L>!MEMqm 行移(允许行位移)
Z$S0X$q} 光栅周期在x和y方向
.&/A!3pW
Pcr;+'q 根据柱栅的尺寸和距离自动计算柱栅的周期。
w^/"j_p@ 因此,它不能单独设置,框显示为灰色。
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[H>/N7v19* 8TO5j 4. 高级选项&信息 3Ael 在传播菜单中有几个高级选项可用。
K\$z,}0 propagation method选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
D$SO 6X~ 可以设置每个方向上考虑的总阶数或倏逝波阶数。
DIh[% 这可能是有用的,尤其是如果考虑金属光栅。
QM'>)!8
/(bn+l}W 相反,对于电介质光栅,默认设置就足够了。
}j,G)\g# Advanced Settings选项卡提供关于结构分解的信息。
_2WIi/6K 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散性。默认设置适用于几乎所有光栅结构。
~T&X#i
IO?6F@( 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。
iPrAB* 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。
U66oe3W 定义的柱栅分解预览(俯视图)。
\fL:Ie •VirtualLab建议将其离散化为2层(1层表示基底)。
2|LkCu)~," S]biN]+7s
,YmTx 基于界面的定义类型 /ee4 v! (例如:截锥光栅)
) 2Hl\"F 1. 堆栈编辑器
tNCKL.yU
GK:pt8= 2. 截锥光栅 !,PoH 在本例中,使用了“截锥光栅界面”。
Di #E m[ 这种类型的界面可以模拟圆形的高透射结构。
WK 6|e[iP 在本例中,锥体是由位于同一材料基体上的熔融二氧化硅制成的。
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-j"2rIl4# 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。
C?%Oi:Gi& 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。
`oo(\O7t= 请注意:界面的顺序总是从基底的表面开始计算。
MM4Eq>F/ 选中的界面以红色高亮显示。
> v ]-B"Y 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。
QsH Fk5) 这种材料可以在光学设置编辑器中更改。
{ Sn
J
-pm^k-%v 此外,锥体的材料会自动从界面之后的材料中取出。
9`sIE _%+ 在本例中,这意味着使用基底(基块)的材料。
p*]nCUs}n 如果光栅结构是由不同的材料制成的,则必须添加额外的平面界面,以便将光栅结构与底座分离。
_D?`'zN 然后根据需要选择截锥与平面界面之间的材料。
9dD;Z$x&Xk 堆栈周期允许控制整个配置的周期。
;?0r,0l2$ 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。
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w"K;e (S xu7Q^F#u 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。 O<?z\yBtS^ 对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。
3. 截锥光栅参数 seo.1.Da2 柱栅是一个可编程接口,由以下参数定义:
j-j,0!T~b 
锥高度
"kT?9&