1. 建模任务 AdDlS~\? 1.1
模拟条件
FjD`bhw- 模拟区域:0~10
5SKj% %B2, 边界条件:Periodic
EEmYfP[3 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
Qvt 单位长度:0.5
+@>K]hdr
1:5jUUL8 zI77#AUM 1.2堆栈
结构 zsnXPRF v {E~R 2. 建模过程 'N#,,d/G 2.1设置模拟条件
qg6283'?
ib8@U}Vn1 5> M6lwS 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 ibo{!>m R,?7|x v8Gm;~ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
/f2HZfj 4sOo>.<x 3. 结果分析 X;/~d>@ 3.1 指向矢分布和透过率
rkOLTi[$ YD1
:m3l! W,'30:#Fr7 3.2所有畴的V-T曲线
ea!_/Y w4w[qxV> cC@B\Q 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
CPGiKE