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摘要 TTpF m~?( H~Cfni; 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 fm0( jH1~Ve+q9 C)w*aU,( 概述 qE}YVKV* 4lCm(#T{, .Q@"];wH •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 _u$K Lqt/, •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 =&b[V" •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 j`B{w -cgukl4Va
SfUUo9R(sm k 9rnT)YU 衍射级次的效率和偏振
ZsZ1 d}_c( @_3$(*n$~ •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 lQ"i]};<D •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 DlI5} Jh •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 Vm.@qO*= •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 "[yiNJ"kt •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 T*yveo&j
[<QWTMjR GwBQ
pNjy 光栅结构参数 MVZ>:G9: S!_?# ^t [[Z>(d$8 •此处探讨的是矩形光栅结构。 46Nf|~ •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 #LJ-IDuF! •因此,选择以下光栅参数: /MH@>C
_ - 光栅周期:250 nm ;!?K.,N:N - 填充系数:0.5 J-F_XKqH - 光栅高度:200 nm ;0}2@Q2@ZK - 材料n1:熔融石英 ^<0 NIu} - 材料n2:TiO2(来自目录) zi
.,?Q \DK*>
k RCXSz bq-\'h
f< 偏振状态分析 (}1f]$V &tCtCk%{j ~-wJ#E3g •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 0z7mre^Q •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。
@l Gn G •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 r:4IKuTR ;bX
~4O&v+
pIiED9 N'P,QiR,z< 产生的极化状态 s$x] fO f*{;\n(.t
kTWg31]~ Ag0_^ @H0%N53nE 其他例子 PRC)GP&q gecT*^ Lo E(W|nj •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 cu!bg+,zl •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 OB^?cA> G D{fXhgk pm@Z[g A>%UYA 光栅结构参数 zN/~a) #UCQiQfP l~TIFmHkh% •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Sx9:$"3.X •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 N 3p 7 0 •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 I7z/GA\x •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 fhIj+/{_O
GtJ*&=( I@Z*Nu1L 光栅#1 ^.kAZSgO \}QuNwc
3(})uV CU1\C* vLFaZ^( •仅考虑此光栅。 pkf OM"5' •假设侧壁表现出线性斜率。 [2 w<F[ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 -s%-*K+,W •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 = #2qX>? agm5D/H]: o / g+Z 假设光栅参数: :8Ts'OGwI •光栅周期:250 nm - b\V(@5 •光栅高度:660 nm qvU$9cTY •填充系数:0.75(底部) j /dE6d •侧壁角度:±6° ^Z4q1i)JO •n1:1.46 +<WRB\W •n2:2.08 ]n]uN~)9 %>9+1lUhV 光栅#1结果 Y:!/4GF wQ=yY$VP 1;:t~Y •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 T19rbL_ •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 M|5]#2J_2 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 ?I2k6%a t#pqXY/;D r>:L$_]L UG"6RW @ 光栅#2 |;U=YRi ?+,*YVT
[mf7>M`p]@ Hdbnb[e OT}Yr9h4 •同样,只考虑此光栅。 _{*$>1q •假设光栅有一个矩形的形状。 K[LVT]3 n •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 a j@C0 假设光栅参数: tk)>CK11 •光栅周期:250 nm @Tfwh/UN •光栅高度:490 nm ELrZ8&5G •填充因子:0.5 ]Z$TzT&@% •n1:1.46 4&oXy,8LC •n2:2.08 zJuRth)(, uO _,n 光栅#2结果 uVq5fT`B or%gTVZ IglJEH[+ •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 #7~tL23}] •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 %EVV-n@ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 TvWU[=4Yk ?zhI=1ED%
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