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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-20
    摘要 ]p:x,%nm  
    'YQ"Lf  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 5#s?rA%u  
    7kO5hlKeo  
    .2/(G{}U  
    z+FhWze  
    建模任务 S*Scf~Qp  
    6Lz{/l8  
    T j9;".  
    概观 AJ[g~ s't  
    OEy'8O$  
    RVy8%[Gcq  
    光线追迹仿真 xi8RE@gm  
     d_gm'  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 o0&jel1a  
    L B1 ui  
    •点击Go！ Lg pj<H[  
    •获得3D光线追迹结果。 y562g`"U  
    Fh9`8  
     6tB-  
    dQ@ e+u5  
    光线追迹仿真 >/nS<y>  
    p}_bu@;.Z  
    /=>z|?z3  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 J/8aDr (+  
    •单击Go！ )Xg,;^  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     /lkIbmV  
    ]=of=T:  
    &N GYV  
    YFOSv]w  
    场追迹仿真 +b1(sk=4z  
    ~{iBm"4  
    ,.uu/qV}w  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 /vS!9f${  
    •单击Go！     o{pQDI {R  
    PF*<_p"j  
    S9J<3 =  
    P;bl+a'gu  
    场追迹结果（摄像机探测器） &F9BaJ  
     01}az~&;35  
    DhV($&*M  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ))cL+ r  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 B-ReBtN  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 LOpn PH`  
    ]WR+>)ERb  
    b>=MG8  
     p#hs8xz  
    场追迹结果（电磁场探测器） KhAj`vOzK  
    xK9"t;!C&  
    )a.Y$![  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     DvHcT] l>5  
    F7gipCc1We  
     =i  }  
     
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