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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 5xc-MkIRL  
    !%'c$U2  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ;CA7\&L>  
    ^S^7 u  
    AeEF/*  
    \)BDl  
    建模任务 xilA`uw`1  
    B3yp2tncj  
    BoXGoFn  
    概观 Q".AmHn  
    Mh5 =]O+  
    )%9 P ;/  
    光线追迹仿真 PxgLt2dXa  
    -42jeJS  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 J,^eq@(  
    lHSu T2)x;  
    •点击Go！ } mEsb?  
    •获得3D光线追迹结果。 |79n 1;+\?  
    cz$q~)I$  
     /qO?)p3gk  
    oW8 hC  
    光线追迹仿真 f"A?\w @  
    4vf,RjB-5  
    qjd8Q  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 u9)<i]2  
    •单击Go！ ' Y.s}Duj  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     44_CT?t<  
    YGr^uTQb  
    .\b# 0w  
    LxxFosi8  
    场追迹仿真 X&({`Uw<K  
    `xd{0EvF  
    JheF}/Bx  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 H He~OxWg  
    •单击Go！     6WX+p3Kv  
    ""^.fh  
    9oJ=:E~CP  
    *dm?,~f%<  
    场追迹结果（摄像机探测器） lBnG!!VrWa  
     I4^}C;p0?  
    _J`q\N K  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 C!aK5rqhv  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 9% AL f 9  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ]Vgl  
    3ws}E6\D  
    aqAWaO  
     ]o\y(!  
    场追迹结果（电磁场探测器） B0}f,J\  
    f.&Y_G3a<  
    6v}WdK  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     QGV~Y+  
    5KFd/9  
     2u|} gZts  
     
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