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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 LsV"h<  
    O=/Tx2i;  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ,Pm/ci( s  
    rl=_ "sd=  
    XN;eehB?aE  
    oJ+$&P(  
    建模任务 )f rtvN7  
    U\{Z{F%8  
    91XHz14  
    概观 9E+lriyY  
    Z}wAh|N-  
    @Q!j7I  
    光线追迹仿真 \m!."~%  
    ~^*tIIOX  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 AtOB'=ph*  
    nLg7A3[1v  
    •点击Go！ `39U I7  
    •获得3D光线追迹结果。 o_n.,=/cZ  
    ]Y?$[+Y  
     2LdV=ifq2S  
    5;l_-0=  
    光线追迹仿真 s@|?N+z  
    qC &<U  
    2srz) xEe  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 5 \J;EWTU  
    •单击Go！ 0&x)5^lG  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     67eo~~nUtg  
    +!(hd  
    {TNAK%'v  
    Yy}aQF#M  
    场追迹仿真 o v~m?Y]h  
    GZw<Y+/V"5  
    wF(FV4#gs  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 [% jg;m  
    •单击Go！     ;ORy&H aKl  
    Fk4 3sqU6~  
    QI- 3m qL  
    "n:9JqPb  
    场追迹结果（摄像机探测器） 83a Rq&(R  
     r/e&}!  
    AN;?`AM;  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 [xC (t]S-  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 oKac~}_KL  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 `3-j%H2R  
    u+'=EGl  
    @&+ 1b=  
     *Pl[a1=o  
    场追迹结果（电磁场探测器） o\#C] pp  
    saV` -#  
     ;P_Zen  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     f`%k@\  
    -|lnJg4  
     *;m721#  
     
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