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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 k5D%y3|9  
    AvdXEY(-  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。  Fy`(BF\  
    MS\>DW  
    :uWw8`  
    * mOo@+89  
    建模任务 c0%"&a1]]V  
    1QLbf*zeIW  
    FN\E*@>X=  
    概观 V n*  
    zaah^.MA|  
    jUSmq m'  
    光线追迹仿真 S/D^  
    |K.mP4CKY  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 #9X70|f  
    k\WR  ]  
    •点击Go！ f !s=(H;  
    •获得3D光线追迹结果。 IB[)TZ2m  
    BRlT7grgq  
     c lNkph  
    p?B=1vn-2  
    光线追迹仿真 JBJhG<J  
    +)y^ 'Qs  
    a"FCZ.O1  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 lrv3fPIW  
    •单击Go！ U@-^C"R  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     kuol rfGB  
    2 dAB-d:k  
    QV {}K  
    ,=Mt`aN  
    场追迹仿真 Zy o[(`y  
    >N]7IU[-  
    \~fONBY  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Pb?$t  
    •单击Go！     KO]T<R h<  
    m|{3),#V  
    pL{U `5S  
    ;~"FLQg@  
    场追迹结果（摄像机探测器） !{^PO <9  
     DV _2P$tT|  
    +xrr? g  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #7MUJY+ 9  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 8Le||)y,\  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 dYL"h.x  
    %d?cP}V  
    gLy&esJl1  
     a'2$nbp}  
    场追迹结果（电磁场探测器） hRs&t,{&  
    kP-3"ACG  
    8=gjY\Dp  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     K?BOvDW"`  
    h&--,A >  
     i70w rW#k  
     
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