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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-20
    摘要 nvwDx*[qN  
    | )S{(#k  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 zh hGqz[K  
    dR%q1Y&`  
    aSxG|OkKy  
    N+[}Gb"8q  
    建模任务 L)=8mF.  
    X$ejy/+.  
    .2{6h  
    概观 5!2J;.&  
    <m:4g ,6  
    )62q|c9F  
    光线追迹仿真 YGi/]^Nba  
    vC s6#PR$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 x*k65WO\  
    dW:w<{a!R  
    •点击Go！ MJpP!a^Q  
    •获得3D光线追迹结果。 S]Sp Z8  
    $a)J CErN  
     Gl d H SCy  
    B=r]_&u-u  
    光线追迹仿真 #%9oQ6nO  
    []sB^UT  
    -d\AiT  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 I%.jc2kK  
    •单击Go！ ~m009  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     |8&\N  
    )F=JkG  
    Ew)n~!s  
    401/33yBJ  
    场追迹仿真 d;*OO xQV  
    |*/uN~[  
    wC4AVJJ^>  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 $cp16  
    •单击Go！     @1`W<WP  
    "^e}C@  
    ,E n(gm  
    tk] _QX %  
    场追迹结果（摄像机探测器） qcpG}o+&D  
     uM}dZp 1  
    u(TgWp5WF  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 )l 4>=y  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ~{3o(gzl  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 2<\yky  
    9~Y)wz  
    @[[C s*-  
     Q T0IW(A  
    场追迹结果（电磁场探测器） )\:lYI}Wpm  
     !z "a_  
    }tl8(kjm  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     m,"cbJ /  
    s$+: F$Y0  
     lN= m$J  
     
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