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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-20
    摘要 %e8@*~h@  
    XnH05LQ  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 rP'me2 B  
    u%GEqruo[  
    U"~>jZKk  
    'NbHa!  
    建模任务 /m!BY}4W  
    CYf$nYR  
    Gf%~{@7=u  
    概观 [>vLf2OID  
    . o6Or:L  
    vJLK,[  
    光线追迹仿真 8$] 1M,$r  
    O"+ gQXe  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 5p,RI&nlN  
    &.F4 b~A7  
    •点击Go！ b.Os iT;_j  
    •获得3D光线追迹结果。 ;gD})@  
    K$z2YJ%  
     xEa\f[.An  
    ;'gWu  
    光线追迹仿真 \Zb;'eDv  
    nF}vw |r>x  
    QDZWX`qw{  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9v#CE!  
    •单击Go！ Mg+2. 8%  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     t"sBPLU\  
    Q1lyj7c#x  
    JT~4mT  
    .zf~.R;>  
    场追迹仿真 TbMW|0 #w  
    U%-A?5  
    xKbXt;l2  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 v<k?Vu  
    •单击Go！     T%+ #xl  
    t <~h'U  
    -$\y_?}  
    k``_EiV4t  
    场追迹结果（摄像机探测器） 2y75  
     3s*mbk[J  
    UB@Rs|)  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 YH$-g  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ]IaMp788  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 =&6eM2>P  
    cUk7i`M;6  
    @b\$yB@z  
     MyOd,vU  
    场追迹结果（电磁场探测器） ~ZaY!(R<  
    VCYwzB  
    4>YR{  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     KA5v+~  
    " > ypIR<  
     *YI98  
     
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