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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-20
    摘要 4k225~GQ:C  
    BEOPZ[Q|c  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 inaO{ny y  
    iAz0 A  
    ["D!IqI :  
    N6._J b  
    建模任务 VW\S>=O99  
    $U_(e:m}f  
    LFax$CZc  
    概观 e{E\YEc  
    UQDAql  
    nB`|VYmOP1  
    光线追迹仿真 X]=eC6M}:V  
    OInl?_,,T#  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 N-K/jY  
    }i8y/CA  
    •点击Go！ !Aj}sh{  
    •获得3D光线追迹结果。 $E@n;0P  
    z6R|1L 1  
     c]{}|2u  
    M 2hZ'  
    光线追迹仿真 (X "J)x aQ  
    V*@aE  
    RB %+|@c  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9295:Y| w1  
    •单击Go！ p3Ux%/ZqPV  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     8NfXYR#  
    }[akj8U  
    <YW)8J  
    |#_p0yPy  
    场追迹仿真 BaQyn 6B  
    \x-2qlZ  
    gkd4)\9  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ~3.*b% ,  
    •单击Go！     RvAgv[8  
    A^,E~Z!x  
    Q` &#u#  
    4;AF\De  
    场追迹结果（摄像机探测器） J3mLjYy  
     RxqNgun@  
    :xr^E]  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 x[58C+  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 M*0^<e~]F  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Ca'BE#q  
    $rXCNew(  
    Es+I]o0K  
     +bE{g@%@ +  
    场追迹结果（电磁场探测器） R$awo/'^  
    &?R/6"J  
    Q/SO%E`E  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     >+J}mo=*  
    *F1TZ_GS  
     S' $;  
     
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