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    [讨论]离子源充氧与充氩有何分别? [复制链接]

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    离线ken_jinyan1
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    只看该作者 10楼 发表于: 2013-01-28
    我们公司的GENER1300  配的是霍尔的离子源。厂家调试的时候用的是O2, tQ< ou,   
    说的是氧气和氩气都是一样的。  氧气流量50, 氩气流量30SCCM,我想问一下 AFGWlC#`  
    离子源对膜料折射率是否有影响。
    离线alex_xie
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    只看该作者 11楼 发表于: 2013-01-30
    使用氩气,镀出来的膜层致密性会好一点,可以氧气氩气一起用
    离线flyinlove79
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    只看该作者 12楼 发表于: 2013-02-02
    热心助人,鼓励!
    离线ken_jinyan1
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    只看该作者 13楼 发表于: 2013-02-19
    但是厂家的工程师和我说MGF2不能用离子源,不知道原因。 #|k;nFJ  
    如果不能用的话,还怎么冷镀膜呢?
    离线a060103112
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    只看该作者 14楼 发表于: 2013-02-27
    回 jiayuch 的帖子
    jiayuch:如果镀得是氟化镁  就用氩气吗 (2007-04-22 16:21)  tuH8!.  
    -M=#U\D  
    氟化镁一般不用离子源,只有偶尔冷镀用,就只加少量氩气
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    只看该作者 15楼 发表于: 2017-08-09
    回 j123456789 的帖子
    j123456789:离子源充氧后会产生氧原子和氧离子,它们具有极其强的活性,作为氧化物膜沉积时的辅助,不仅能提高膜层的密度,还能改善其吸收!但,其会降低离子源的寿命!!充氩仅能提高膜层的密度,同时离子源的寿命会相对长! (2007-04-15 15:49)  !O*'mX  
    5{zmuv:  
    好有用
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    只看该作者 16楼 发表于: 2017-08-09
    回 a060103112 的帖子
    a060103112:氟化镁一般不用离子源,只有偶尔冷镀用,就只加少量氩气 (2013-02-27 11:32)  ~C x2Q4E  
    $c47cJO)W  
    原来是这样呀
    离线pyykun
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    只看该作者 17楼 发表于: 2018-02-27
    谢谢大神们!!!
    离线dcfcwdx
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    只看该作者 18楼 发表于: 2018-03-03
    受教了
    离线yedewang
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    只看该作者 19楼 发表于: 2018-05-08
    非常有用