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    [求助]镀膜后环测双85实验，外观有水渍点无法去除，什么原因？ [复制链接]

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    离线chenliang1990
    实习生
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 06-24
    镀膜设备，光驰OTFC，工艺条件：Ta2O5+SIO2,   温度：320℃，射频源 >"3>s%  
    RH;:9_*F  
    w>?Un,K  
     
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    离线ouyuu
    论坛版主
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    只看该作者 1楼 发表于: 07-15
    两个可能。1，离子源的中和电流不够，导致膜内有电荷积聚，调大中和电流试试。 jZfx Jm  
    2，片子洗净的问题，镀前用离子源多轰一下，看看有没有改善。 e59dVFug.U  
    Si}HX!s  
    另外中和器偶尔的打火也有可能造成电荷积聚，但这个不会每炉都会实现。 Mc sTe|X  
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    离线renlgj
    技术员
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    只看该作者 2楼 发表于: 07-18
    学习中，谢谢楼上各位
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