主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模
干涉耦合器,主要步骤如下:
7VLn$q]: • 定义MMI耦合器的
材料;
O? 7hT!{ • 定义布局设定;
H.tfn>N| • 创建一个MMI耦合器;
R@IwmJxX • 插入输入面;
zUWWXC%R • 运行
模拟;
1_@vxi~aW_ • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。
,GtN6? &o`LT|*m 1. 定义MMI耦合器的材料
9SU/86|N 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作:
FaaxfcIfkw 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“
E6?0/" PoRP]Q*n 图1.初始性能对话框
oSO~72 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)”
+a+DiD>./ hu~XFRw15 图2.轮廓设计窗口
E8aD[j[w 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口
bhW&,"$Z >ATccv 图3.电介质材料创建窗口
IL%P\Zs 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料:
FJsM3|{2=d − Name : Guide
IKp/xj[! − Refractive Index (Re) : 3.3
uJ3*AO − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
D@
BP< \.=,}sV2Z 图4.创建Guide材料
tSTl#xy 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料:
ypTH=]y − Name : Cladding
<4"Bb_U − Refractive Index (Re) : 3.27
h9&0"LHr − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
87R$Y> V ^W0eRT 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 1f$1~5Z
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道:
VexQ ] − Name : Guide_Channel
yM? jiy − 2D profile definition: Guide
b C"rQJg − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口
K/!>[d t2FA|UF sQO>1bh
lQVK~8t3
图6.构建通道
2. 定义布局设定
0)9n${P7d 为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作:
4CxU
eq 1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签
]QF*\2b-I2 − Width:2.8
Fw%S%*B8g 注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度
Bdib)t[ − Profile:Channel-Guide
U;Yw\&R