苹果公司“光学测量系统中的去斑”专利公布

发布:cyqdesign 2024-03-26 16:51 阅读:225

据国家知识产权局公告,苹果公司申请一项名为“光学测量系统中的去斑”,公开号CN117760960A,申请日期为2023年9月。

专利摘要显示,本公开涉及光学测量系统中的去斑。实施方案涉及在测量期间利用多个发射器来发射光的光学测量系统,以及使用这些光学测量系统来执行测量的方法。该光学测量系统可包括:光产生组件,该光产生组件被配置为经由光源单元产生光;以及光子集成电路,该光子集成电路包括发射组,该发射组具有多个发射器。这些发射器中的每个发射器光学地耦接到该光产生组件以接收从该光产生组件产生的光,并且可从该光子集成电路的表面发射该光。该光学测量系统可执行测量,其中该光产生组件产生光并且该多个发射器中的每个发射器同时地发射从该光产生组件接收的光。

关键词: 光学测量
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