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T7XbbU 内容简介 0J9Ub
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 AjO|@6 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 CK} _xq2b 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 k.#[h@Pm xy<)zKp 讯技科技股份有限公司 CLY>M`%?+p
!tv+,l&L 目录 zB)wYKwZ Preface 1 I~U;M+n*y 内容简介 2 i.>d#S 目录 i =:v5`
: 1 引言 1 EoHrXv 2 光学薄膜基础 2 IgtTYxI 2.1 一般规则 2 fhQ}Z%$ 2.2 正交入射规则 3 G!m;J8#m( 2.3 斜入射规则 6 'fY(
Vm 2.4 精确计算 7 UNKXfe(X9 2.5 相干性 8 F%e5j9X` 2.6 参考文献 10 V]A*' ke/ 3 Essential Macleod的快速预览 10 $t42?Z=N&z 4 Essential Macleod的特点 32 u69s}yZ 4.1 容量和局限性 33 $3 ~/H"K 4.2 程序在哪里? 33 X0gWTs 4.3 数据文件 35 G[[<-[C]5 4.4 设计规则 35 ++M%PF [
{ 4.5 材料数据库和资料库 37 ,L7:3W 4.5.1材料损失 38 %(n^reuP 4.5.1材料数据库和导入材料 39 {'eF;!!Dy 4.5.2 材料库 41 :l?/]K 4.5.3导出材料数据 43 ;CdxKr-d 4.6 常用单位 43 iQ_^MzA 4.7 插值和外推法 46 \I`g[nT| 4.8 材料数据的平滑 50 k8ej. 4.9 更多光学常数模型 54 (
G# W6 4.10 文档的一般编辑规则 55 XYsU)(;j 4.11 撤销和重做 56 %W]"JwRu 4.12 设计文档 57 @c#M^:9Dc 4.10.1 公式 58 [i)G:8U 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 /2e,,)4g 4.10.3 沉积密度 59 H;rLU9b 4.10.4 平行和楔形介质 60 }=JuC+#~n 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 B#;0{ 4.10.4 性能 61 d<B=p&~ 4.10.5 保存设计和性能 64 G .k\N(l 4.10.6 默认设计 64 Z:s:NvFX 4.11 图表 64 WL/9r
*jW 4.11.1 合并曲线图 67 e.ksN 4.11.2 自适应绘制 68 0ud>oh4WPR 4.11.3 动态绘图 68 GjvTYg~ 4.11.4 3D绘图 69 r:uW(<EP^ 4.12 导入和导出 73 b!xm=U 4.12.1 剪贴板 73 maTZNzy 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 u9R:2ah&K 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 b9@VD)J0E 4.13 背景 77 GLIP;)h1 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 G@;I^_gN 4.15 生成Rugate 84 -$m?ShDd 4.16 参考文献 91 hz_F^gF 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 N:Zf4 5.1 Jobs 92 5uufpvah 5.2 创建一个新Job(工作) 93 esVZ2_eL 5.3 输入材料 94 d8Kxtg
Y 5.4 设计数据文件夹 95 bkfk9P 5.5 默认设计 95 SR\F2@u 6 细化和合成 97 9K`uGu 6.1 优化介绍 97 D&r2k
9 6.2 细化 (Refinement) 98 trC+Etc 6.3 合成 (Synthesis) 100 nzK"eNDN. 6.4 目标和评价函数 101 gELb(Y\ak 6.4.1 目标输入 102 \9t6#8 6.4.2 目标 103 86,$ I+ 6.4.3 特殊的评价函数 104 Tx'ctd#Y 6.5 层锁定和连接 104 hu+% X.F4 6.6 细化技术 104 rv?d3QqIC 6.6.1 单纯形 105 fCxF3m(O 6.6.1.1 单纯形参数 106 AE"E($S` 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 SMdkD]{g 6.6.2.1 Optimac参数 108 |6.1uRF E2 6.6.3 模拟退火算法 109 3qc o2{nz 6.6.3.1 模拟退火参数 109 )c$)am\I{ 6.6.4 共轭梯度 111 IN%04~=H 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 @j Y_^8#S 6.6.5 拟牛顿法 112 H^no&$2`1 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 b|HH9\ 6.6.6 针合成 113 JrdH6Zg 6.6.6.1 针合成参数 114 Q5s?/r 6.6.7 差分进化 114 YQ+Kl[ec 6.6.8非局部细化 115 >O{/%(9 6.6.8.1非局部细化参数 115 :>t?^r( 6.7 我应该使用哪种技术? 116 }@V,v[&e 6.7.1 细化 116 $iblLZhj 6.7.2 合成 117 H}$hk 6.8 参考文献 117 Hf'yRKACj 7 导纳图及其他工具 118 dIR6dI 7.1 简介 118 \#A=twp 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 igW>C2J 7.2.1 四分之一波长规则 119 ^{W#ut>IN 7.2.2 导纳图 120 /j1p^=ARV 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Uieg4I ro 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 }bs2Rxkh 7.5 斜入射导纳图 141 6GD Uo}. 7.6 对称周期 141 7BX%z$_)A 7.7 参考文献 142 drQioH- 8 典型的镀膜实例 143 YTco;5/ 8.1 单层抗反射薄膜 145 M\s^>7es 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 0CD2o\`8 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 JqdNO:8 8.4 W-膜层 148 pw7_j;}l 8.5 V-膜层 149 L^`oJ9k! 8.6 V-膜层高折射基底 150 adJoT-8P6 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 79^on8 k} 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 e<p_u)m 8.9 四层抗反射薄膜 153 pP'-}% 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Ik#>6 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 A/U tf0{3" 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ~%Ws"1 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 YSuwV)Y 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 vR?L/G^. 8.15十五层宽带抗反射膜 159 8<g_JW[% 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 )W@H 8.17 1/4波长堆栈 162 (!'; 8.18 陷波滤波器 163 ?nFT51t/4 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 pg~`NN 8.20 褶皱 165 N[}XLhbt 8.21 消偏振分光器1 169 #oYX0wvl 8.22 消偏振分光器2 171 n#N<zC/ 8.23 消偏振立体分光器 172 rrSA.J{ 8.24 消偏振截止滤光片 173 fxLhVJ"b 8.25 立体偏振分束器1 174 X/1Z9a+W 8.26 立方偏振分束器2 177 s8``U~D 8.27 相位延迟器 178 !qH=l-7A 8.28 红外截止器 179 v]*W*; 8.29 21层长波带通滤波器 180 U[S;5xeF.j 8.30 49层长波带通滤波器 181 ftq~AF 8.31 55层短波带通滤波器 182 ,Z%!38gGsu 8.32 47 红外截止器 183 D0QXvrf 8.33 宽带通滤波器 184 S$"A[ 8.34 诱导透射滤波器 186 su=.4JcK 8.35 诱导透射滤波器2 188 (6\A"jey\x 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 )m[!HE`cZ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 %!rsu-W:Y 8.35 增益平坦滤波器 193 N13 <!QQ 8.38 啁啾反射镜 1 196 vfhip"1 8.39 啁啾反射镜2 198 RpLm'~N' 8.40 啁啾反射镜3 199 bi^LpyEn 8.41 带保护层的铝膜层 200 "_)
8.42 增加铝反射率膜 201 }qz58]fyx 8.43 参考文献 202 4r(rWlM 9 多层膜 204 7<.f&1MgI 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 WaMn[/{ 9.2 内部透过率 204 dm$:xE": 9.3 内部透射率数据 205 kd\yHI9A 9.4 实例 206 lQ+-g#` 9.5 实例2 210 cDTDim1F 9.6 圆锥和带宽计算 212 ~[9 ]M)=O0 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 &U
'Ds! 10 光学薄膜的颜色 216 v!`M=0k 10.1 导言 216 Q|G[9HBI 10.2 色彩 216 P6=|C;[ 10.3 主波长和纯度 220 sZ4H\ 10.4 色相和纯度 221 E/GI:}YUy_ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 V,M8RYOnC! 10.6 色差 226 G8oQSo;D 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 G#%
=R`k/ 10.8 颜色渲染指数 234 d&'6l"${ 10.9 色差计算 235 3YT _GW{ 10.10 参考文献 236 i&LbSxUh9 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <bTa88,) 11.1 短脉冲 238 Hh@mIusj 11.2 群速度 239 4t8 Hy 11.3 群速度色散 241 L7xTAFe 11.4 啁啾(chirped) 245 jN {ED_ 11.5 光学薄膜—相变 245 (~#PzE: 11.6 群延迟和延迟色散 246 g*]<]%Py" 11.7 色度色散 246 2C8M1^0:Z 11.8 色散补偿 249 q5RLIstQ\ 11.9 空间光线偏移 256 ZK'I$p]b 11.10 参考文献 258 oL6_Ya 12 公差与误差 260 gVl#pVO`N 12.1 蒙特卡罗模型 260 uw<Ruy 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 c&_3"2: 12.2.1 误差工具 267 oD}I{&=wa 12.2.2 灵敏度工具 271 T@S+5( 12.2.2.1 独立灵敏度 271 3?}SXmA'@ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 i/Hi 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 "M*\,IH 12.3 参考文献 276 0bd.ess 13 Runsheet 与Simulator 277 $i`YtV 13.1 原理介绍 277 G37_
`C 13.2 截止滤光片设计 277 FQ 4rA 4 14 光学常数提取 289 kB:R-St 14.1 介绍 289 O0I/^ 14.2 电介质薄膜 289 UmJg-~ 14.3 n 和k 的提取工具 295 }ps6}_FE 14.4 基底的参数提取 302 5s|gKM 14.5 金属的参数提取 306 P~*fZ)\}F@ 14.6 不正确的模型 306 <<xJ-N 14.7 参考文献 311 w5nRgdboy! 15 反演工程 313 bVrvb`0 15.1 随机性和系统性 313 2KX *x_- 15.2 常见的系统性问题 314 2-CK:)n/# 15.3 单层膜 314 l{3utQH-=z 15.4 多层膜 314 BdYh: 15.5 含义 319 &Y&zUfA 15.6 反演工程实例 319 := 8vy 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 doa$
;=wg 15.6.2 反演工程提取折射率 327 }qg!Um0 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 ls5S9R 5 16.1 光学性质的热致偏移 329 %SE g(< |