培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

发布：ueotek 2024-03-11 10:25 阅读：334

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。

培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。

培训日程和内容

Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时	第一天	第二天	第三天
01	01 课程介绍； 02 非序列光线追迹； 03 光源物体； 04 探测器物体；	17 抛物面反射器； 18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； 20 复合抛物面聚光器 CPC；	33 故障排查：光线追迹中止条件； 34 故障排查：几何错误； 35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离；
02	05 分辨率 VS 噪声； 06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； 08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型；	21 背光模组物体阵列 & 光源阵列]； 22 复杂几何体； 23 嵌套规则； 24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体；	37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； 38 序列模式转换成非序列模式； 39 杂散光分析介绍；40 散射；
12:00-14:00 午休时间
03	09 光源建模：内置几何模型； 10 光源建模：使用测量数据； 11 生成 Source Model 光线； 12 模拟光源光谱；	25 CAD 导入 & 导出； 26 使用混合模式； 27 偏振光线追迹； 28 物体属性：面分组 & 属性；	41 杂散光分析工具； 42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； 44 非序列系统公差分析；
04	13 色度学；14 建模彩色光源； 15 测量颜色数据； 16 照明系统；	29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； 31 简单光线分裂实例； 32 非序列设置；	45 答疑与交流讨论

培训信息

注意

1、本次培训统一发送配套的培训教材。

2、学员自备笔记本电脑，培训结束后将为每位学员颁发培训证书。

3、为提高培训效率，采用小班授课模式。名额有限，欲报从速。

4、如报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠将取消或延迟本门课程，具体情况以开课前一周通知为准。

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