摘要 ~jJ e|zg> |C7=$DgwY 如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统，结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的
物理光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、偏振和
衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
DOq"=R+ _ FN#Vq2 
f_IsY+ @ h-\+# .YP 建模任务：专利WO2018/178626 Q>uJ: [x+ ge% tj O 
TZarI-A r `PD}6\ 任务描述 T|uG1 #W/ATsDt 
$Eo-58<q {Vf].l:kn 光波导元件 
PsN_ c [+ H2CpZK' 光波导结构 (_ fov V= P@U2Q%\ 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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~FnY'F<35 E +Dcw 光栅#1:一维倾斜周期光栅 u3IhB8' tQ`| MO&o KR>o 2 几何布局展示了2个光栅：
Bm&6 &cy<"y 
% ejq|i7 •光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅
&,$N|$yK}| •光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交）
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p-,Bq!aG$ -K6y#O@@ 光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 V/yj.aA*@ MZ>Q Rf BxB B]( 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
JG{`tTu !'> ,37() 
t_ \&LMD c;88Wb<|W 可用
参数：
wM! dz& •周期：400纳米
]aYuBoj •z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm
h/*@ML+bB8 •填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50%
?B <.d8i •倾斜角度：40º
4TSkm`iR 'AZxR4W 
l6.&<0pLT l$m}aQ% h S]Aaf-X_ 总结—元件 }|l7SFst AL|3_+G =sk#`,,: 具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。
5i%\m \Npvm49 
I 1Yr{(ho ,Uy;jk 可用参数：
N\Ab0mDOV. •周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米）
Y /l~R7 •调制深度：100nm
C{,Vk/D -0 •填充系数：65%
Nop61zj •菱形网格的角度：30°
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)*aAkM Wl]XOUZ 总结——元件 hz5t/E <Ik5S1<h$H 
`)Y 5L}c= D H:9iX ' 
? 5wsgP^ bl\;*. s' 结果：系统中的光线 f,ql8q(|J N:,V{Pw 
[C@ Ro,mI a >k9&
w 结果：
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"e/"$z'ca 0f9U:)1z 结果：场追迹 )/Oldyp upFe{M@ 
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