摘要 yZ:qU({KhD Xj*Wu_ %y@AA>x! 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
:&Nbw 9uY'E'm* 设计任务 9Flb|G% rNM;ZPF# POW>~Tof1 连接建模技术:蛾眼结构 $kgVa^ ;<5q]/IHK q4q6c")zp 光栅阶数分析器 SuznN
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Cy 元件内场分析器:FMM 0V]s:S "b[5]Y{
U 0c&+|>! 参数运行 MDN--p08 Si,6o!0k ,Q,^3*HX9} 参数优化 BY*Q_Et 598i^z{~0% f?b"i A(6 模拟结果 'S~5"6r \9d$@V 通过计算器进行参考测量 / xQPTT v:p} B$ [Q =Nn 结构内的场 AS,%RN^. P4?glh q# }Lv;! 23?rEhKe 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 y]imZ4{/ _U0f=m /bEAK- 初始解决方案 #1 的参数优化 R3!t$5HG _6Ha :LTN!jj 最终设计 #1 的性能分析 KG@8RtHsQ F"<vaqT2 初始解决方案 #2 的参数优化 Ah<+y\C -+5>|N# uMv1O{ 最终设计 #2 的性能分析 j4b4!^fV