. 建模任务 /;{E}` 1.1
模拟条件
R q
|,@ 模拟区域:0~10
Ql8s7 % 边界条件:Periodic
kVeR{i<*( 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
J<;@RK,c_ 单位长度:0.5
cM 5V%w
]9]o*{_+(f aP&bW))CI 1.2堆栈
结构 k3yA*Ec 1O,:fTG< 2. 建模过程 ;eY.4/*R 2.1设置模拟条件
K6d2}!5
qEJ#ce]G EJ@&vuDd$ 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 0Fc^c[ s{9G// pB5#Ho>S 2.3创建掩膜并生成多畴结构
Swr
8 '^!#*O 3. 结果分析 :tf'Gw6v 3.1 指向矢分布和透过率
l' mdj!{&
kJ[r.)HU ? dh 3.2所有畴的V-T曲线
{$xt.< sD ,=_q@ ^gSZzJ5 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
XT%\Ce!