摘要
a1nj}1M% _RcFV 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
"X7;^yY KnjowK fqcFfz6?x w2/3\3p 建模任务
<.lT.>'? ~-.^eT kP ; OpN&q+ LAT%k2%Wx 入射平面波
@&G< Np` 波长 2.08 nm
ZXR#t?D 光斑直径: 3mm
M
XX:i 沿x方向线偏振
@h&crI[c R^*h|7)E 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
n2#Yw}7^,o 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
:J{| /"== Mx<?c 概览
m)aNuQvy:Z •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
X>`5YdT~+ •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
c>(`X@KL ^bjaa @\|W#,~ 光线追迹模拟
,GH;jw)P •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
|dxcEjcY_ •点击Go!
g;Lk 'Ky6 •获得3D光线追迹结果。
D@cv{
_M/ Fu%%:3_ Ym WVb U0Y;*_>4 光线追迹模拟
DG!H8^
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
[4_JK •单击Go!
7oK7f=*Q •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
;GgW&*| wCwJ#-z.= @@O=a m<DiYxK 光场追迹模拟
L`M.Htm8 •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
*yx&4)Or •单击Go!
PU6Sa-fQ2, L:(>ON \
M_}V[1+ 79?%g=#= 光场追迹结果(照相机探测器)
)TmqE<[ aNLkkkJg<; •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
aq|R? •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
EPZ^I) qXH\e| mF?GQls` |"Rl_+d7D 光场追迹结果(电磁场探测器)
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M$:D kYVn4Wq •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
Wx i|(} R>ak 3Y pnvHh0ck_ WI?iz-,]( I4%p?'i,C [CBhipoc @Y~R*^n"} .!kO2/:6