摘要
N1:)Z`r DvI^3 iG8 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
:W-xsw 44^jE{,9 
54]UfmT%I b83m'`vRM 建模任务
rP(;^8l" {c
$8?6 
GIkVU6Q} M6Ik 'r"M 入射平面波
"[_gRe*2 波长 2.08 nm
(w<llb`] 光斑直径： 3mm
~WmA55 沿x方向线偏振
(G>g0(;D- loyhNT= 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
gazX2P[D 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
?|hY tV a}k5[)et 概览
oBPm^ob4 •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
0w2<2grQ •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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@&Af [X4s 光线追迹模拟
m$'Zi S5 •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
2-#&ktM%V •点击Go！
6099w0fR` •获得3D光线追迹结果。
9PR?'X;4 )RT:u)N 
* @ S+J$ A22'qgKm@ 光线追迹模拟
B1U7z1< •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
@7?L+.r$9 •单击Go！
`q y@Qo •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
9$R}GK v?q)E%5j 
T' ) l FbD9G6h5 光场追迹模拟
phcY QqR •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
N/B-u)?\: •单击Go！
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W_]onq 6 n 8) eC2 A 光场追迹结果（照相机探测器）
e yByAT~W, A9y3B^\* •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
Kl :x?"g) •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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KD..X~Me T $Rf 光场追迹结果（电磁场探测器）
&UX:KW`= GUvEOD=p •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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