摘要
hO( RZ'{ c!wtf,F 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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61@EDIYPc +S9PML){h 建模任务
&&7r+.Y FS@A8Bb
A'-_TFwW WG5W0T_ 入射平面波
sbS~N*{E 波长 2.08 nm
\#6Fm_b]u 光斑直径: 3mm
Yc;ec9~ 沿x方向线偏振
XUmR{A d,9`<1{9 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
_0(7GE13p 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
XsL#;a C =SBBvnPLI 概览
GEe`ZhG,
•样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
6rX_-Mm6w •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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;t(f1rPyE 光线追迹模拟
(OmH~lSO. •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
YZE.@Rz •点击Go!
rU2iy"L •获得3D光线追迹结果。
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Cifd21v4 mT.e>/pa 光线追迹模拟
g/Wh,f3 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
Qe$k3! •单击Go!
Q@QFV~ •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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w Y(6Sp'0 光场追迹模拟
]%dnKP~ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
23ze/;6%A •单击Go!
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P*K )qU7`0'8 光场追迹结果(照相机探测器)
MI#mAg< vqNsZ 8|` •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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: •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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LE=k %[QV,fD'E 光场追迹结果(电磁场探测器)
S h4wqf acW'$@y9?N •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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