摘要
*(q?O_3,b 1Xm>nF~ 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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e8xq`:4Y @XzfuuE] 建模任务
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qQ3Q4R\ !P EKMDh 入射平面波
|w*s:p 波长 2.08 nm
E:**gvfq 光斑直径： 3mm
zqNzWX 沿x方向线偏振
X0P +[.i c8uw_6#r(D 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
E#r QJ 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
O H2IO }O@>:?U 概览
*a CVkFp •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
qX-5/;n •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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F+y 光线追迹模拟
#1'q'f:7 & •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
|U{~t< BF# •点击Go！
95@u| #n •获得3D光线追迹结果。
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v0 :n:q SEzjc ~ @3 光线追迹模拟
"*X\'LPs= •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
UG`~RO •单击Go！
y<- ]'Yts •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
v\?J=|S+ IW<rmP=R& 
7:vl -ZW .cs x"JC 光场追迹模拟
"] ]LQb$ •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
dE,E,tv •单击Go！
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_dk[k@5W{' *Ts$Hj[ 光场追迹结果（照相机探测器）
m"Mj3Z: Y3[KS;_fr9 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
UwS7B~ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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;AOLbmb)H4 jnJ*e-AW 光场追迹结果（电磁场探测器）
>fP; H}S6 +fboTsp% H •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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