摘要
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o,_eg1f -rrg?4 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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^Y !`wp2vn : DP{YL|x 建模任务
)o CF|
2qc x-EAu 3=V 
z5 zm,Jw dWEx55>,1 入射平面波
b ;b1 V 波长 2.08 nm
ul1Vsj 光斑直径： 3mm
2^:nlM{u 沿x方向线偏振
(' Pd
GV4V / ffWmb_4 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
1,,: 4 *) 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
NH!! .Z" fNumY|%3 概览
^|2qD:
; •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
\qP rY. - •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
5VS<I\o} >U]. k8a) 
IB<ihk 光线追迹模拟
"O{sdVS •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
2oRmro •点击Go！
q}lSnWY[[ •获得3D光线追迹结果。
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CY= 
xMu6PM<l Sr0mA M 光线追迹模拟
16U @o>O •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
+xa2e?A%L •单击Go！
-b<+Ra •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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"=)`*"rr r0, }f\ 光场追迹模拟
VEk|l X;2 •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
n%}0hVu •单击Go！
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Cq=c'(cX #=2~MXa@z7 光场追迹结果（照相机探测器）
4-Amz U C. |MA(7 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
bk 2vce& •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
!{+(oDN +|N"i~f>j 
o5d)v)Rx= 4
0eNgm^ 光场追迹结果（电磁场探测器）
!|]%^G . Hw^ Nx •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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